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本文為你詮釋PCB正片和負(fù)片的區(qū)別,PCB正片負(fù)片輸出、制作工藝上的區(qū)別與差異,以及PCB負(fù)片使用場合,有什么好處等問題,在這里你都可以找到答案。
PCB正片和負(fù)片是最終效果是相反的制造工藝。
PCB正片的效果:凡是畫線的地方印刷板的銅被保留,沒有畫線的地方敷銅被清除。如頂層、底層...的信號層就是正片。
PCB負(fù)片的效果:凡是畫線的地方印刷板的敷銅被清除,沒有畫線的地方敷銅反而被保留。Internal Planes層(內(nèi)部電源/接地層)(簡稱內(nèi)電層),用于布置電源線和地線。放置在這些層面上的走線或其他對象是無銅的區(qū)域,也即這個工作層是負(fù)片的。
負(fù)片:一般是我們講的tenTIng制程,其使用的藥液為酸性蝕刻
負(fù)片是因為底片制作出來后,要的線路或銅面是透明的,而不要的部份則為黑色或棕色的,經(jīng)過線路制程曝光后,透明部份因干膜阻劑受光照而起化學(xué)作用硬化,接下來的顯影制程會把沒有硬化的干膜沖掉,于是在蝕刻制程中僅咬蝕干膜沖掉部份的銅箔(底片黑色或棕色的部份),而保留干膜未被沖掉屬于我們要的線路(底片透明的部份),去膜以后就留下了我們所需要的線路,在這種制程中膜對孔要掩蓋,其曝光的要求和對膜的要求稍高一些,但其制造的流程速度快。
正片:一般是我們講的pattern制程,其使用的藥液為堿性蝕刻
正片若以底片來看,要的線路或銅面是黑色或棕色的,而不要部份則為透明的,同樣地經(jīng)過線路制程曝光后,透明部份因干膜阻劑受光照而起化學(xué)作用硬化,接下來的顯影制程會把沒有硬化的干膜沖掉,接著是鍍錫鉛的制程,把錫鉛鍍在前一制程(顯影)干膜沖掉的銅面上,然后作去膜的動作(去除因光照而硬化的干膜),而在下一制程蝕刻中,用堿性藥水咬掉沒有錫鉛保護(hù)的銅箔(底片透明的部份),剩下的就是我們要的線路(底片黑色或棕色的部份)。
負(fù)片就是為了減小文件尺寸減小計算量用的。有銅的地方不顯示,沒銅的地方顯示。這個在地層電源層能顯著減小數(shù)據(jù)量和電腦顯示負(fù)擔(dān)。不過現(xiàn)在的電腦配置對這點工作量已經(jīng)不在話下了,我覺得不太推薦負(fù)片使用,容易出錯。焊盤沒設(shè)計好有可能短路什么的。
電源分割方便的話,方法有很多,正片也可以用其他方法很方便的進(jìn)行電源分割,沒必要一定用負(fù)片。